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G100U/G150U正立式激光干涉儀工作站
G100U和G150U是乾曜光學新開發(fā)的兩款正立式激光干涉儀工作站,有效口徑分別為101.6mm(4英寸)和152.4mm(6英寸)。可以測量平面面形、球面面形和曲率半徑,選配雙五維載物臺,可以測量透過波前和非球面的補償法測量。
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G100D和G150D立式激光干涉儀
G100D和G150D立式激光干涉儀的有效口徑分別為101.6mm(4英寸)和152.4mm(6英寸)。
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G100/G150/G200 立式激光平面干涉儀
G200M,G150M和G100M專為計量和科研需求設計,適用于計量機構檢定和校準光學平晶。其集高性能、長壽命氦氖激光器,高清光學系統(tǒng),1-6倍圖像放大功能和精密平面標準鏡等一系列高精技術,選配Sirius抗振移相干涉條紋分析軟件,實現(xiàn)高精密平面光學元件的測量。
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G100/G150 臥式激光干涉儀
G系列激光干涉儀定位高性價比的精密激光干涉儀,可以進行平面面形、平行度、波前和材料均勻性,球面面形、曲率半徑以及光學系統(tǒng)波像差等幾乎所有的干涉測量,可測量材料包含玻璃、塑膠、陶瓷、硅片和拋光的金屬。