干涉測(cè)量技術(shù)是以光波干涉原理為基礎(chǔ)進(jìn)行測(cè)量的一門(mén)技術(shù)。與一般光學(xué)成像測(cè)量技術(shù)相比，干涉測(cè)量具有大量程、高靈敏度、高精度等特點(diǎn)。隨著激光技術(shù)的出現(xiàn)及其在干涉測(cè)量領(lǐng)域中應(yīng)用，使干涉測(cè)量技術(shù)在量程、分辨率、抗干涉能力、測(cè)量精度等方面有了顯著的進(jìn)步。
      從光學(xué)零件的質(zhì)量控制到光學(xué)系統(tǒng)的象質(zhì)評(píng)價(jià)，從經(jīng)典的光學(xué)技術(shù)到自適應(yīng)光學(xué)工程，現(xiàn)代干涉測(cè)量技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴(kuò)展。另一方面，現(xiàn)代數(shù)字圖像處理技術(shù)、傳感器技術(shù)和計(jì)算機(jī)技術(shù)使干涉圖像判讀技術(shù)實(shí)現(xiàn)了計(jì)算機(jī)實(shí)時(shí)自動(dòng)判讀，大大提高了干涉測(cè)量的精度和靈敏度
      干涉條紋是干涉場(chǎng)中光程差相同點(diǎn)的軌跡。根據(jù)干涉條紋的形狀、方向、疏密以及條紋移動(dòng)等情況，可獲取被測(cè)量的有關(guān)信息。按光波分光的方法，干涉儀有分振幅式和分波陣面式兩類(lèi)。按相干光束傳播路徑，干涉儀可分為共程干涉和非共程干涉兩種。
      按用途又可將干涉儀分為兩類(lèi)，一類(lèi)是通過(guò)測(cè)量被測(cè)面與參考標(biāo)準(zhǔn)波面產(chǎn)生的干涉條紋分布及其變形量，進(jìn)而求得試樣表面微觀(guān)幾何形狀、場(chǎng)密度分布和光學(xué)系統(tǒng)波像差等，即所謂靜態(tài)干涉；另一類(lèi)是通過(guò)測(cè)量干涉場(chǎng)上指定點(diǎn)干涉條紋的移動(dòng)或光程差的變化量，進(jìn)而求得試樣的尺寸大小、位移量等，即所謂動(dòng)態(tài)干涉。