•待測(cè)球面的R/D（曲率半徑與口徑的比值）應(yīng)當(dāng)大于球面鏡頭的F數(shù)，才能實(shí)現(xiàn)全口徑測(cè)量；建議選取F數(shù)最接近（略大于）被測(cè)面R/D值的球面鏡頭。
•凸面曲率半徑與口徑的測(cè)量范圍受限于鏡頭標(biāo)準(zhǔn)面的曲率半徑與有效通光口徑；凹面的測(cè)量范圍受限于測(cè)試腔的長(zhǎng)度（也即是儀器導(dǎo)軌的有效移動(dòng)距離）與寬度（也即是載物臺(tái)的橫向尺寸）。

4、儀器特點(diǎn)：
•精度高
標(biāo)準(zhǔn)鏡頭采用優(yōu)良的光學(xué)、機(jī)械設(shè)計(jì)，并經(jīng)過高精度裝配，性能優(yōu)異，精度可靠；
•調(diào)整方便
可通過切換開關(guān)選擇對(duì)準(zhǔn)與干涉場(chǎng)兩種顯示模式，方便調(diào)整；
•條紋真實(shí)
可調(diào)節(jié)共軛成像位置，得到清晰、準(zhǔn)確、真實(shí)的干涉條紋；
•性能優(yōu)良
儀器具備良好的隔振性能，適合光學(xué)加工現(xiàn)場(chǎng)使用；
•適合多品種小批量檢驗(yàn)
儀器采用正立式結(jié)構(gòu)，通用載物臺(tái)設(shè)計(jì)，適合對(duì)多品種的元件行表面光圈及局部光圈的檢驗(yàn)。
5、儀器操作流程：
5.1、基本操作
•儀器初始化
開機(jī)后穩(wěn)定15分鐘，使激光器模式穩(wěn)定。
•鏡頭安裝
根據(jù)待測(cè)面曲率半徑選擇合適F數(shù)的鏡頭，通過螺紋方式將其旋轉(zhuǎn)固定在調(diào)整架上，然后將儀器右側(cè)的轉(zhuǎn)換開關(guān)切換至“對(duì)準(zhǔn)調(diào)整”顯示模式，把鏡頭標(biāo)準(zhǔn)面反射光點(diǎn)調(diào)整至十字叉絲中央。
•光路調(diào)試
將待測(cè)元件放置于載物臺(tái)上，將轉(zhuǎn)換開關(guān)切換至“干涉圖”顯示模式，調(diào)整載物臺(tái)z軸高度，視場(chǎng)中會(huì)出現(xiàn)一個(gè)帶條紋的光點(diǎn)，此時(shí)調(diào)節(jié)載物臺(tái)上的xy軸平移旋鈕，使光點(diǎn)位于視場(chǎng)中心，然后繼續(xù)沿z軸方向調(diào)節(jié)載物臺(tái)（若光點(diǎn)不斷變大或不斷向視場(chǎng)外側(cè)移動(dòng)，則z軸調(diào)節(jié)方向正確，反之需反方向調(diào)節(jié)），直到光點(diǎn)變?yōu)楦缮鎴D，充滿整個(gè)視場(chǎng)，此時(shí)將緊固手輪鎖緊。
調(diào)整載物臺(tái)x、y方向平移，使條紋數(shù)量減少；并調(diào)節(jié)z軸微調(diào)旋鈕，使條紋變直。重復(fù)進(jìn)行上述步驟，直到調(diào)出滿意的干涉條紋為止（建議3～5條）
•條紋判讀
依據(jù)GB 2831-81（光學(xué)零件的面形偏差檢驗(yàn)方法），并結(jié)合我們?yōu)榭蛻籼貏e制作的“干涉圖與波像差對(duì)比圖”（見附錄），進(jìn)行條紋判讀。需要提醒的是，球面面形檢驗(yàn)一般只能測(cè)試局部光圈，離焦量主要來自調(diào)試誤差，不應(yīng)計(jì)入面形畸變。
5.2、特殊操作
•光圈檢驗(yàn)
測(cè)量表面光圈之前首先要做標(biāo)定，把光圈量規(guī)（即球面樣板）放置于載物臺(tái)上，采用上述步驟進(jìn)行調(diào)整，確保視場(chǎng)內(nèi)干涉條紋沒有任何彎曲；然后在相同條件下放置待測(cè)元件，此時(shí)干涉條紋的彎曲量即表征了待測(cè)表面的光圈值。
•曲率半徑測(cè)量
球面曲率半徑必須在安裝光柵尺的干涉儀上才能測(cè)量。分別調(diào)整出貓眼位置（即標(biāo)準(zhǔn)鏡頭的焦點(diǎn)位置）和齊明位置（當(dāng)待測(cè)球面球心與標(biāo)準(zhǔn)鏡頭焦點(diǎn)重合時(shí)的位置），兩個(gè)位置之間的距離即為球面的曲率半徑。
•干涉圖清晰度調(diào)節(jié)
通過調(diào)整標(biāo)準(zhǔn)鏡旁邊的“共軛調(diào)節(jié)旋鈕”，使干涉圖清晰的顯示在監(jiān)視器上。儀器在出廠之前已經(jīng)校正到最佳成像位置，一般情況下不需要進(jìn)行重新調(diào)整。
•干涉圖對(duì)比度調(diào)節(jié)
當(dāng)待測(cè)表面鍍高反膜時(shí)，干涉條紋對(duì)比度會(huì)較差，此時(shí)推薦選配衰減過濾片，將其插入待測(cè)元件與標(biāo)準(zhǔn)鏡之間衰減光強(qiáng)，可獲得良好的條紋對(duì)比度。